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中析研究所檢測(cè)中心

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中科光析科學(xué)技術(shù)研究所

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北京市豐臺(tái)區(qū)航豐路8號(hào)院1號(hào)樓1層121[可寄樣]

投訴建議:

010-82491398

報(bào)告問(wèn)題解答:

010-8646-0567

檢測(cè)領(lǐng)域:

成分分析,配方還原,食品檢測(cè),藥品檢測(cè),化妝品檢測(cè),環(huán)境檢測(cè),性能檢測(cè),耐熱性檢測(cè),安全性能檢測(cè),水質(zhì)檢測(cè),氣體檢測(cè),工業(yè)問(wèn)題診斷,未知成分分析,塑料檢測(cè),橡膠檢測(cè),金屬元素檢測(cè),礦石檢測(cè),有毒有害檢測(cè),土壤檢測(cè),msds報(bào)告編寫(xiě)等。

瓷磚成分檢測(cè)

發(fā)布時(shí)間:2025-05-12

關(guān)鍵詞:瓷磚成分檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn),瓷磚成分檢測(cè)方法,瓷磚成分檢測(cè)案例

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來(lái)源:北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所

文章簡(jiǎn)介:

瓷磚成分檢測(cè)是評(píng)估產(chǎn)品質(zhì)量與安全性的重要技術(shù)手段,主要針對(duì)原材料組成、有害物質(zhì)限值及物理性能指標(biāo)進(jìn)行科學(xué)分析。核心檢測(cè)項(xiàng)目包括放射性核素含量、重金屬溶出量、吸水率及抗折強(qiáng)度等關(guān)鍵參數(shù),需依據(jù)GB/T4100、ISO13006等標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范實(shí)施實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)。本文系統(tǒng)闡述檢測(cè)流程的技術(shù)要點(diǎn)與實(shí)施規(guī)范。
點(diǎn)擊咨詢

因業(yè)務(wù)調(diào)整,部分個(gè)人測(cè)試暫不接受委托,望見(jiàn)諒。

檢測(cè)項(xiàng)目

瓷磚成分檢測(cè)體系包含五大核心模塊:

化學(xué)成分分析:測(cè)定SiO2(45-75%)、Al2O3(15-25%)、Fe2O3(≤1.5%)等主要氧化物含量

放射性核素檢測(cè):依據(jù)GB 6566測(cè)定鐳-226(≤35 Bq/kg)、釷-232(≤35 Bq/kg)、鉀-40(≤400 Bq/kg)活度指數(shù)

物理性能測(cè)試:包含吸水率(Ⅰ類≤0.5%、Ⅲ類>10%)、破壞強(qiáng)度(≥1300N)、線性熱膨脹系數(shù)(6.0×10-6/℃)等指標(biāo)

微觀結(jié)構(gòu)分析:通過(guò)SEM-EDS觀測(cè)晶相結(jié)構(gòu)(莫來(lái)石相占比≥60%)、氣孔率(≤0.5%)及晶界分布特征

有害物質(zhì)限量:鉛(≤75mg/kg)、鎘(≤50mg/kg)等重金屬可溶出量符合GB 31604.1標(biāo)準(zhǔn)

檢測(cè)范圍

分類維度具體類型執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
材質(zhì)類別炻瓷磚(BⅠa類)ISO 13006 Annex G
細(xì)炻磚(BⅡb類)EN 14411:2016
陶質(zhì)磚(BⅢ類)ASTM C242-20
應(yīng)用場(chǎng)景室內(nèi)地磚(R10-R13級(jí))DIN 51130:2014
外墻干掛系統(tǒng)用磚JGJ 133-2001
泳池專用防滑磚ISO 10545-17:2016
實(shí)驗(yàn)室耐腐蝕磚ISO 13006 Annex H
特殊功能型產(chǎn)品需增加抗菌性能(ISO 22196:2011)、防靜電特性(SJ/T 11294-2018)等專項(xiàng)檢測(cè)

檢測(cè)方法

X射線熒光光譜法(XRF)

采用波長(zhǎng)色散型光譜儀(WDXRF),依據(jù)GB/T 30707-2014標(biāo)準(zhǔn)對(duì)樣品進(jìn)行無(wú)損快速分析。測(cè)試條件設(shè)定為Rh靶材、50kV管電壓、60mA電流,通過(guò)FP法計(jì)算元素氧化物含量。

伽馬能譜法

使用HPGe探測(cè)器配合鉛屏蔽室進(jìn)行放射性核素測(cè)定。樣品經(jīng)粉碎過(guò)篩(粒徑<0.16mm)后裝入Marinelli杯,累積測(cè)量時(shí)間≥8h,參照EJ/T 1117-2000進(jìn)行數(shù)據(jù)校正。

電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)

按GB/T 23991-2009制備酸性浸提液(0.07mol/L HCl),采用徑向觀測(cè)模式測(cè)定Cd、Pb等重金屬元素。儀器參數(shù)設(shè)定為RF功率1350W,霧化氣流速0.7L/min。

材料試驗(yàn)系統(tǒng)法

使用電子萬(wàn)能試驗(yàn)機(jī)執(zhí)行三點(diǎn)彎曲試驗(yàn)。依據(jù)ISO 10545-4:2019設(shè)定跨距L=200mm±1mm,加載速率1mm/min±0.2mm/min至試樣斷裂。

掃描電子顯微鏡法(SEM)

樣品經(jīng)噴金處理后置于場(chǎng)發(fā)射電鏡觀察斷面形貌。工作電壓15kV,放大倍數(shù)5000×~20000×,配合能譜儀進(jìn)行微區(qū)成分分析。

檢測(cè)儀器

X射線熒光光譜儀

型號(hào)例:Rigaku ZSX Primus IV

檢出限:1ppm~100%

符合標(biāo)準(zhǔn):JIS K 0119-2017

高純鍺伽馬能譜儀

型號(hào)例:Canberra GC4020

能量分辨率:≤1.8keV@1332keV

符合標(biāo)準(zhǔn):GB/T 11713-2015

電感耦合等離子體光譜儀

型號(hào)例:PerkinElmer Avio 500

線性范圍:0.001~1000mg/L

符合標(biāo)準(zhǔn):ISO 11885:2007

電子萬(wàn)能試驗(yàn)機(jī)

型號(hào)例:Instron 5967

載荷容量:50kN

精度等級(jí):0.5級(jí)

符合標(biāo)準(zhǔn):ASTM E4-21

場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

型號(hào)例:Hitachi SU5000

分辨率:1.0nm@15kV

放大倍數(shù):20×~800,000×

符合標(biāo)準(zhǔn):ISO 16700:2016

>激光粒度分析儀> <

>型號(hào)例:Malvern Mastersizer3000<

> 測(cè)量范圍:0.01~3500μm<

> 符合標(biāo)準(zhǔn):ISO13320:2020>

檢測(cè)流程

1、咨詢:提品資料(說(shuō)明書(shū)、規(guī)格書(shū)等)

2、確認(rèn)檢測(cè)用途及項(xiàng)目要求

3、填寫(xiě)檢測(cè)申請(qǐng)表(含公司信息及產(chǎn)品必要信息)

4、按要求寄送樣品(部分可上門取樣/檢測(cè))

5、收到樣品,安排費(fèi)用后進(jìn)行樣品檢測(cè)

6、檢測(cè)出相關(guān)數(shù)據(jù),編寫(xiě)報(bào)告草件,確認(rèn)信息是否無(wú)誤

7、確認(rèn)完畢后出具報(bào)告正式件

8、寄送報(bào)告原件

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