因業(yè)務(wù)調(diào)整，部分個(gè)人測(cè)試暫不接受委托，望見(jiàn)諒。

檢測(cè)項(xiàng)目

氧化鋯成分檢測(cè)涵蓋以下核心指標(biāo)：

主成分分析：ZrO?含量測(cè)定（包含穩(wěn)定劑Y?O?或MgO的配比驗(yàn)證）

雜質(zhì)元素檢測(cè)：Al?O?、SiO?、Fe?O?等金屬/非金屬雜質(zhì)定量分析

相組成分析：?jiǎn)涡毕啵╩-ZrO?）、四方相（t-ZrO?）、立方相（c-ZrO?）比例測(cè)定

物理特性關(guān)聯(lián)參數(shù)：晶粒尺寸分布、孔隙率與化學(xué)成分的相關(guān)性驗(yàn)證

痕量元素篩查：U、Th等放射性元素及重金屬元素限量檢測(cè)

檢測(cè)范圍

本檢測(cè)適用于以下材料類型：

原料粉末：高純氧化鋯粉體（3Y-TZP/5Y-TZP等）、穩(wěn)定化處理前驅(qū)體

成型制品：結(jié)構(gòu)陶瓷件（軸承球、切削刀具）、功能陶瓷（氧傳感器、固體電解質(zhì)）

復(fù)合材料：ZrO?增韌Al?O?（ZTA）、金屬-陶瓷復(fù)合涂層

特殊形態(tài)材料：納米氧化鋯分散液、多孔陶瓷支架、單晶纖維

工業(yè)中間體：燒結(jié)前素坯、等離子噴涂用喂料顆粒

檢測(cè)方法

依據(jù)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)與行業(yè)規(guī)范執(zhí)行以下分析方法：

X射線熒光光譜法（XRF）：GB/T 30904-2014測(cè)定主量元素含量，精度達(dá)±0.5wt%

電感耦合等離子體發(fā)射光譜法（ICP-OES）：ISO 11885:2007實(shí)現(xiàn)ppb級(jí)微量元素定量

X射線衍射分析法（XRD）：ASTM D5380-14進(jìn)行物相定量分析（Rietveld精修法）

激光粒度分析法（LPSA）：ISO 13320:2020表征粉末粒徑分布特征

熱重-差示掃描量熱聯(lián)用法（TG-DSC）：JIS K7120評(píng)估材料熱穩(wěn)定性與相變溫度

電子探針顯微分析（EPMA）：GB/T 15074-2017完成微區(qū)成分面分布掃描

檢測(cè)儀器

標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室配置以下正規(guī)設(shè)備：

波長(zhǎng)色散XRF光譜儀：配備Rh靶X光管（4kW），可測(cè)元素范圍B~U

全譜直讀ICP-OES系統(tǒng)：軸向觀測(cè)模式配合CID檢測(cè)器，檢出限≤1ppb

多功能X射線衍射儀：Cu-Kα輻射源（45kV/40mA），配備高溫附件（-190~1600℃）

場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡-能譜聯(lián)用系統(tǒng)（FE-SEM/EDS）：分辨率≤1nm，面分析精度±0.1at%

同步熱分析儀（STA）：TG-DSC同步測(cè)量模塊，控溫精度±0.1℃/min

激光粒度分析儀：干濕法雙模式測(cè)量范圍10nm~3500μm

微波消解工作站：高壓密閉消解系統(tǒng)（300℃/199bar），滿足難溶樣品前處理需求

輝光放電質(zhì)譜儀（GD-MS）：實(shí)現(xiàn)ppb級(jí)痕量雜質(zhì)全元素掃描分析

拉曼光譜儀（Raman）：532nm/785nm雙激光源配置，用于相變過(guò)程原位監(jiān)測(cè)

高溫原位XRD附件系統(tǒng)：最高工作溫度1600℃，實(shí)時(shí)記錄相組成演變過(guò)程

動(dòng)態(tài)圖像粒度儀（DIA）：ISO 13322-2標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證的顆粒形貌同步分析設(shè)備

全自動(dòng)比表面及孔隙度分析儀（BET）：多點(diǎn)BET法測(cè)定納米粉體比表面積（0.01~3000m2/g）

檢測(cè)流程

1、咨詢：提品資料(說(shuō)明書、規(guī)格書等)

2、確認(rèn)檢測(cè)用途及項(xiàng)目要求

3、填寫檢測(cè)申請(qǐng)表(含公司信息及產(chǎn)品必要信息)

4、按要求寄送樣品(部分可上門取樣/檢測(cè))

5、收到樣品，安排費(fèi)用后進(jìn)行樣品檢測(cè)

6、檢測(cè)出相關(guān)數(shù)據(jù)，編寫報(bào)告草件，確認(rèn)信息是否無(wú)誤

7、確認(rèn)完畢后出具報(bào)告正式件

8、寄送報(bào)告原件